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GaN行業(yè)新標(biāo)桿:比業(yè)界最佳Si MOSFET效率高2%,兼容所有驅(qū)動(dòng)器

2023.09.15

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GaN行業(yè)新標(biāo)桿:比業(yè)界最佳Si MOSFET效率高2%,兼容所有驅(qū)動(dòng)器

原創(chuàng) 吳子鵬 電子發(fā)燒友網(wǎng) 2023-09-15 07:01 發(fā)表于廣東

電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/吳子鵬)為了實(shí)現(xiàn)“雙碳”(“碳達(dá)峰”和“碳中和”)目標(biāo),全球主要國(guó)家和地區(qū)在環(huán)保法規(guī)上持續(xù)收緊,給消費(fèi)、汽車、工業(yè)和能源等重點(diǎn)領(lǐng)域帶來了巨大的挑戰(zhàn)。為了滿足這些法規(guī),電子電氣設(shè)備只能持續(xù)追求更高的系統(tǒng)效率,實(shí)現(xiàn)更高的功率密度。


“Cambridge GaN Devices(以下簡(jiǎn)稱:CGD)致力于GaN晶體管和IC的設(shè)計(jì)、開發(fā)與商業(yè)化,以實(shí)現(xiàn)能效和緊湊性的突破性飛躍,我們的ICeGaN 650V H2系列(以下簡(jiǎn)稱:H2系列)能夠幫助系統(tǒng)方案實(shí)現(xiàn)更高的效率,整體效率表現(xiàn)比基于業(yè)界最佳的Si MOSFET還要高2%。通過產(chǎn)品性能創(chuàng)新,幫助CGD的客戶應(yīng)對(duì)像美國(guó)能源效率認(rèn)證中DOE LevelVII級(jí)這樣的嚴(yán)苛認(rèn)證?!痹赑CIM Asia 2023上,CGD亞太區(qū)FAE經(jīng)理徐維利在接受記者采訪時(shí)講到。


多維度創(chuàng)新讓GaN器件更高效



GaN和SiC器件是PCIM Asia 2023的重頭戲,霸占了一眾展商展區(qū)的“C位”。原因很簡(jiǎn)單,無(wú)論是消費(fèi)電子、工業(yè)電子、汽車電子,還是超大功率應(yīng)用、可再生能源等領(lǐng)域都將受益于第三代半導(dǎo)體器件的創(chuàng)新,實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)自身的可持續(xù)發(fā)展。


市場(chǎng)熱潮推動(dòng)相關(guān)器件快速發(fā)展,作為CGD新一代GaN功率器件,H2系列進(jìn)一步突破GaN器件在效率、可靠性和易用性方面的極限。徐維利表示:“H2系列是一種增強(qiáng)型(eMode)硅基氮化鎵(GaN-on-Si)功率晶體管,為了讓器件在效率上能夠得到進(jìn)一步提升,器件內(nèi)采用了包括創(chuàng)新性全集成 NL3電路,集成米勒鉗位的先進(jìn)箝位結(jié)構(gòu)等創(chuàng)新設(shè)計(jì)。相較于業(yè)界最佳的Si MOSFET,其QG降低了10倍,QOSS降低了5倍,在350W SMPS(開關(guān)電源)應(yīng)用中,效率高達(dá)95%。”


根據(jù)他的介紹,NL3電路是SMPS中的Standby線路,使得空載和輕負(fù)載功耗創(chuàng)新低。這是一個(gè)非常重要的創(chuàng)新,系統(tǒng)并非每時(shí)每刻都在滿負(fù)載運(yùn)轉(zhuǎn),在空載或者輕負(fù)載的情況下,經(jīng)過測(cè)試,NL3電路大約在4毫秒之后將系統(tǒng)中不必要的供電線路全部切斷,使得系統(tǒng)功耗進(jìn)入一個(gè)非常低的水平。據(jù)悉,CGD H1系列器件運(yùn)轉(zhuǎn)功耗大概為1.3mA,H2系列在空負(fù)載情況下能夠下降到100μA的水平。H2系列器件內(nèi)部電路也得到了優(yōu)化,能夠降低功耗的部分都采用更小電流去驅(qū)動(dòng),最終實(shí)現(xiàn)的結(jié)果是H2系列的運(yùn)轉(zhuǎn)功耗也僅為800μA。


H2系列降低功耗的手段還包括內(nèi)部集成電流檢測(cè)功能,無(wú)需單獨(dú)電流檢測(cè)電阻器。另外,由于器件可直接焊接到接地平面的大面積覆銅區(qū)域,可以幫助優(yōu)化散熱和EMI,有助于實(shí)現(xiàn)更高的系統(tǒng)功率密度。


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H2系列器件,圖源:CGD


下圖是H2系列和目前行業(yè)領(lǐng)先GaN競(jìng)品對(duì)比圖,在65 W-USB-PD QR反激和240 W-TCM PFC + LLC應(yīng)用中,H2系列有明顯的低功耗優(yōu)勢(shì)。



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65 W-USB-PD QR反激應(yīng)用功耗對(duì)比,圖源:CGD



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240 W-TCM PFC + LLC應(yīng)用功耗對(duì)比,圖源:CGD


消除隱患讓GaN器件更穩(wěn)健



與現(xiàn)有Si解決方案相比,GaN可以實(shí)現(xiàn)更高的效率和更小的尺寸。不過,無(wú)論是目前熱門的充電器適配器、其他消費(fèi)類SMPS,還是光伏能源和數(shù)據(jù)通信領(lǐng)域,對(duì)于產(chǎn)品穩(wěn)健性都有著很高的要求。原因在于,標(biāo)準(zhǔn)的GaN器件只能承受幾百納秒的短路,需要?jiǎng)?chuàng)新設(shè)計(jì)克服這一點(diǎn)以實(shí)現(xiàn)更高的可靠性和穩(wěn)健性。而穩(wěn)健性恰恰是H2系列的優(yōu)勢(shì)。


徐維利指出,和H1系列一樣,H2系列也是基于ICeGaN柵極技術(shù)進(jìn)行設(shè)計(jì),提供超越多芯片、外部接口電路和其他單片集成驅(qū)動(dòng)器HEMT的可靠性。這種智能的柵極接口,幾乎消除了典型eMode GaN的弱點(diǎn),過壓穩(wěn)健性顯著提高,可提供更高的噪聲抗擾閾值,實(shí)現(xiàn)dV/dt雜訊抑制和ESD保護(hù)。


相較于傳統(tǒng)P-GaN GATE HEMT和其他增強(qiáng)型GaN器件,ICeGaN柵極技術(shù)擁有諸多先進(jìn)的特性。比如,其閾值電壓Vth高達(dá)3V,提供高達(dá)20V的柵極電壓擴(kuò)展范圍。作為對(duì)比,傳統(tǒng)P-GaN GATE HEMT的Vth約為1.5V,柵極可承受最大電壓僅為7V。


因此,和業(yè)界目前最先進(jìn)的650 V eMode GaN相比,H2系列在所有溫度下的軟開關(guān)和硬開關(guān)中的穩(wěn)健性提高3倍,能夠承受的極限電壓達(dá)到72V。




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H2系列和業(yè)界最先進(jìn)650 V eMode GaN耐壓對(duì)比,圖源:CGD



還有一點(diǎn)必須要提到的是,傳統(tǒng)P-GaN GATE HEMT需要負(fù)電壓才能夠安全可靠地關(guān)斷,H2系列則不需要。H2系列采用集成米勒鉗位的先進(jìn)箝位結(jié)構(gòu),無(wú)需負(fù)柵極電壓,可實(shí)現(xiàn)真正的零電壓關(guān)斷,并提高動(dòng)態(tài)RDS(ON) 性能。


徐維利解讀稱,傳統(tǒng)P-GaN GATE HEMT的Vth非常低,那么在導(dǎo)通或者關(guān)斷的時(shí)候,一個(gè)很小的干擾信號(hào)就可能導(dǎo)致誤導(dǎo)通或者誤關(guān)斷,在一些半橋拓?fù)渲羞@是非常危險(xiǎn)的,是用戶不愿意看到的情況。那么為了完全關(guān)斷,就需要負(fù)電壓去讓傳統(tǒng)P-GaN GATE HEMT在關(guān)斷時(shí)完全截止。由于ICeGaN中Vth更高,就可以監(jiān)測(cè)Gate電壓,當(dāng)這個(gè)電壓低于Vth時(shí),就可以啟動(dòng)系統(tǒng)中的鉗位開關(guān),將Gate和Source強(qiáng)制連接在一起,這種情況下VGS就趨近于零。那么就可以保證Gate電壓低于Vth,使器件處于完全關(guān)斷的狀態(tài)。




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ICeGaN柵極技術(shù),圖源:CGD


“ICeGaN的零電壓關(guān)斷是一種更穩(wěn)健、更抗干擾的切換模式,可提供卓越的柵極可靠性?!彼麑?duì)此強(qiáng)調(diào)。



從用戶角度出發(fā)讓GaN器件更易用

當(dāng)用戶選擇使用GaN器件時(shí),除了考慮到系統(tǒng)效率和器件穩(wěn)健性等問題以外,還需要考慮易用性的問題。在GaN器件面世之前,Si MOSFET憑借開關(guān)速度高,導(dǎo)通電阻低,不受熱失控影響等優(yōu)勢(shì),成為很多應(yīng)用的首選。


GaN器件將功率應(yīng)用的性能推到了一個(gè)更高的水平,不過HEMT只是類似MOSFET,但電流不會(huì)流過整個(gè)襯底或緩沖層,而是流過一個(gè)二維的電子氣層。如果只是簡(jiǎn)單地接入傳統(tǒng)Si MOSFET的驅(qū)動(dòng)器,很容易造成GaN器件的絕緣層、勢(shì)壘或其他結(jié)構(gòu)性部分被擊穿,導(dǎo)致GaN器件永久性損壞。因此,耗盡型 (dMode)、增強(qiáng)型 (eMode)、共源共柵型 (Cascode) 三種GaN器件都有各自的柵極驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)要求。




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GaN器件的平面結(jié)構(gòu),圖源:CGD



如果再讓用戶去針對(duì)性設(shè)計(jì)一套驅(qū)動(dòng)電路,無(wú)疑會(huì)造成很高的使用門檻,那么在穩(wěn)健性的前提下提供易用性便是GaN器件主要競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)之一。


“CGD在GaN器件方面的所有創(chuàng)新都能夠讓用戶直接享受‘know how’,而不是需要弄明白器件內(nèi)部結(jié)構(gòu)和驅(qū)動(dòng)條件是什么。這樣做的好處是,H2系列的驅(qū)動(dòng)方式和傳統(tǒng)Si MOSFET非常類似,采用當(dāng)下廣泛存在的工業(yè)柵極驅(qū)動(dòng)器就可以直接驅(qū)動(dòng)?!毙炀S利談到,“和其他增強(qiáng)型GaN器件不同,H2系列兼容任何Si MOSFET驅(qū)動(dòng)器?!?/p>


CGD能夠做到這一點(diǎn),還是要?dú)w功于ICeGaN柵極技術(shù)的創(chuàng)新設(shè)計(jì)。如果柵極最大可承受電壓為標(biāo)準(zhǔn)的7V,那么驅(qū)動(dòng)電壓只能在5-7V之間,范圍非常窄,很難去匹配Si MOSFET驅(qū)動(dòng)器。并且,傳統(tǒng)P-GaN GATE HEMT完全關(guān)斷需要負(fù)電壓,需要做額外的線路設(shè)計(jì)來滿足。




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ICeGaN H2 系列柵極技術(shù)集成智能柵極驅(qū)動(dòng)和電流檢測(cè)功能,圖源:CGD



ICeGaN柵極技術(shù)將智能柵極驅(qū)動(dòng)接口和電流檢測(cè)功能都集成在器件內(nèi)部,從器件外部來看,用戶得到一個(gè)從0-20V這樣寬泛的驅(qū)動(dòng)電壓范圍,然后正電壓去做鉗位,負(fù)電壓通過米勒鉗位除掉,這樣直接接入Si MOSFET驅(qū)動(dòng)器就可以使用了。


從應(yīng)用領(lǐng)域來看,H2系列器件能夠滿足圖騰柱和單開關(guān)PFC,準(zhǔn)諧振反激和有源鉗位反激,高頻LLC、PSFB DC/DC轉(zhuǎn)換器等拓?fù)浣Y(jié)構(gòu),可應(yīng)用于充電器適配器,通用SMPS,PSU、工業(yè)SMPS和逆變器,高功率D類音頻產(chǎn)品,光伏逆變器等豐富的領(lǐng)域。徐維利指出,對(duì)于650V GaN器件而言,應(yīng)用拓展是循序漸進(jìn)的,從消費(fèi)電子到工業(yè)領(lǐng)域,再到伺服器電源和通信電源,對(duì)于器件的可靠性和安全性的要求越來越高。后續(xù),CGD會(huì)逐漸將過流保護(hù)和過溫保護(hù)等保護(hù)功能集成到器件內(nèi)部,并開發(fā)出更多的封裝類型,保障產(chǎn)品的持續(xù)競(jìng)爭(zhēng)力。


在PCIM Asia 2023上,CGD展出的方案和參考設(shè)計(jì)包括LLC半橋測(cè)試板、350W高功率密度參考設(shè)計(jì)、350W PFC評(píng)估板、1.6kWLLC模組、65WQFC評(píng)估板等。



小結(jié)


目前,GaN器件在消費(fèi)類快充市場(chǎng)已經(jīng)取得了很大的成功,根據(jù)市場(chǎng)調(diào)研機(jī)構(gòu)BCC Research的預(yù)測(cè)數(shù)據(jù),預(yù)計(jì)到2025年全球GaN快充的市場(chǎng)規(guī)模將超過600億元。當(dāng)然,GaN器件的應(yīng)用不局限于快充,已經(jīng)逐步滲透到工業(yè)、可再生能源、通信電源和航天等領(lǐng)域。隨著市場(chǎng)挑戰(zhàn)逐步增大,對(duì)GaN器件的穩(wěn)健性、可靠性和易用性要求將越來越高,在這些方面,CGD的H2系列無(wú)疑已經(jīng)成為行業(yè)發(fā)展的新標(biāo)桿。